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Applications of plasma processes to VLSI technology

edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim. -- Wiley, 1985. <BB10040413>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 549.7/A59 10011114 0件

No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 549.7/A59
資料ID 10011114
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim
出版・頒布事項 New York : Wiley , c1985
形態事項 xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0471869600
その他の標題 原タイトル:Handōtai purazuma purosesu gijutsu
注記 Translation of: Handōtai purazuma purosesu gijutsu
注記 "A Wiley-Interscience publication."
注記 Bibliography: p. 369-389
注記 Includes index
学情ID BA0724373X
本文言語コード 英語
著者標目リンク 菅野, 卓雄(1931-)||スガノ, タクオ <AU05000076>
統一書名標目リンク Handōtai purazuma purosesu gijutsu English <>
分類標目 LCC:TK7871.85
分類標目 DC19:621.381/73
件名標目等 Semiconductors -- Etching
件名標目等 Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Vapor-plating