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ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著. -- 日刊工業新聞社, 1984. <BB10011610>
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ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著. -- 日刊工業新聞社, 1984. <BB10011610>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 549/Ko12 10015037 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 549/Ko12
資料ID 10015037
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法 / 小林春洋〔ほか〕著
ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 1984.7
形態事項 199,6p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4526017442
学情ID BN00036182
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 小林, 春洋(1925-)||コバヤシ, ハルヒロ <AU10008573>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND354
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 印刷回路||インサツカイロ
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