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超LSIレジストの分子設計

津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB10028515>
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津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB10028515>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 549.7/Ts34 10017276 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 549.7/Ts34
資料ID 10017276
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 1990.4
形態事項 v, 117p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085116
書誌構造リンク 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB21009821> 11//a
注記 文献: p[110]-113
学情ID BN04656779
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 津田, 穣(1935-)||ツダ, ミノル <AU30010639>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目 NDC7:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:PA441
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等 工業材料||コウギョウザイリョウ
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ
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