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ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books ; 79). <BB10030973>
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ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books ; 79). <BB10030973>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 549.7/F96 10017216 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 549.7/F96
資料ID 10017216
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著
ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ : チョウ LSI プロセス ノ リードヤク
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1991.6
形態事項 182p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4769360800
書誌構造リンク K books <BB21011463> 79//a
学情ID BN06481370
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 布施, 玄秀(1951-)||フセ, ゲンシュウ <AU10044048> 編著
著者標目リンク 平尾, 孝||ヒラオ, タカシ <AU10043083> 編著
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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