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イオンビームによる薄膜設計

山田公著. -- 共立出版, 1991. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 15). <BB10031359>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 431.86/Y19 10028578 0件

No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 431.86/Y19
資料ID 10028578
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 イオンビームによる薄膜設計 / 山田公著
イオン ビーム ニ ヨル ハクマク セッケイ
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 1991.9
形態事項 v, 114p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085159
書誌構造リンク 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB21009821> 15//a
注記 文献: 各章末
学情ID BN06866284
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU10043795>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
件名標目等 薄膜||ハクマク