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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB10033191>
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB10033191>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 宇都宮 2F 549.8/Ta33 10008837 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 宇都宮
配置場所 2F
請求記号 549.8/Ta33
資料ID 10008837
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1994.3
形態事項 266p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311222
注記 執筆者: 西澤潤一ほか
注記 章末: 参考文献
学情ID BN10527941
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 高橋, 清(1934-)||タカハシ, キヨシ <AU20007042> [ほか]編著
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)||ニシザワ, ジュンイチ <AU05022184>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 光化学||コウカガク
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
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